韓國(guó)連續(xù)鍍板設(shè)備陽(yáng)極層離子源清洗

1 輸入電壓 380V 10%三相四線 50-60Hz

2 輸出特性 調(diào)流調(diào)壓

3 輸出空載電壓 DC 1500V /3000V

4 輸出電流 可根據(jù)客戶(hù)需求選擇

5 負(fù)載持續(xù)率 100%

6 整機(jī)效率 88%

7 功率范圍 可根據(jù)客戶(hù)需求選擇

8 工作真空度 2×10-2~6×10-1 Pa

9 離子源尺寸 可根據(jù)客戶(hù)需求定制

10 均勻性：±10%

11 離子束流 ：10-35mA/cm

12 陰極間隙寬度:2.5-3mm

13 適應(yīng)氣體：氬氣、氦氣、氫氣、氧氣、氮?dú)狻⒁胰驳鹊?

14 氣體流量：1-4sccm/cm(設(shè)備抽速)

陽(yáng)極層離子源可用于離子蝕刻，離子清洗、活化和強(qiáng)化材料表面、消除靜電、輔助鍍膜等作用。

也可直接鍍DLC（類(lèi)金剛石）、光學(xué)膜和氧化膜等。

特性：

    依據(jù)陽(yáng)極層線性封閉漂移理論，氣體在離子中的陰陽(yáng)極之間通過(guò)，其陽(yáng)極的正電壓與加在內(nèi)外陰極端部間的強(qiáng)磁場(chǎng)相互作用，產(chǎn)生等離子體，來(lái)自于等離子體中的離子受陽(yáng)極電場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)，由離子源中產(chǎn)生噴出的離子束流。

    可作為基片表面的清潔離子清洗源?？稍谌嵝曰现苯渝僁LC和光學(xué)膜、氧化物、氮化物等作為磁控濺射過(guò)程中的離子輔助沉積。低氣壓、低電壓、高束流。陽(yáng)極膜離子源產(chǎn)生的低能量、大束流的離子束可以有效去除基片表面的有機(jī)污染物和氧化層，增加薄膜的附著力，同時(shí)避免對(duì)基片轟擊時(shí)造成損傷(如平板顯示器鍍膜、柔性基材鍍膜)。

    無(wú)燈絲、柵極及中和柵、可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行和生產(chǎn)。非常高的平均無(wú)故障時(shí)間和極地的維護(hù)成本。由于陽(yáng)極膜離子源無(wú)需燈絲，空心陰極等電子中和器而且水冷完全，所有其對(duì)鍍膜環(huán)境的溫度改變很小。這個(gè)特性對(duì)溫度敏感基片的鍍膜非常有利。同樣道理，沒(méi)有電子中和器使其可以長(zhǎng)時(shí)間免維護(hù)工作。